我國首次建立基于硅晶格常數(shù)溯源的集成電路納米線寬標準物質(zhì)
發(fā)布日期:2024-09-14??【打印此頁】
近日，市場監(jiān)管總局批準建立平面結構納米線寬標準物質(zhì)（[2024]國標物證字第5975號）和立體結構納米線寬標準物質(zhì)（[2024]國標物證字第5976號），打通極小納米線寬量值向硅晶格常數(shù)溯源的計量途 徑，成為我國集成電路晶體管柵極線寬溯源最精準“標尺”，支撐集成電路制造向極微觀尺度邁進，提升集成電路芯片集成度和性能先進制造水平，有力促進我國集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展。
納米線寬作為集成電路的關鍵尺寸，指晶體管柵極的最小線寬（柵寬），是描述集成電路工藝先進程度的一個重要指標，其量值的準確性將極大影響電流、電阻等電特性參數(shù)等芯片器件的性能指標。有研究表明，當集成電路線寬節(jié)點達到32nm以下時，線寬量值10%的誤差將導致芯片器件失效。當前集成電路先進的工藝制程節(jié)點要求線寬達到原子級準確度，通常采用線寬標準物質(zhì)對關鍵尺寸量測設備進行計量溯源，以確保關鍵尺寸設計加工的準確性。隨著集成電路工藝制程節(jié)點的不斷縮小，芯片的晶體管密度增加和性能提升得益于晶體管柵極寬度的不斷減少。
納米線寬作為集成電路的關鍵尺寸，指晶體管柵極的最小線寬（柵寬），是描述集成電路工藝先進程度的一個重要指標，其量值的準確性將極大影響電流、電阻等電特性參數(shù)等芯片器件的性能指標。有研究表明，當集成電路線寬節(jié)點達到32nm以下時，線寬量值10%的誤差將導致芯片器件失效。當前集成電路先進的工藝制程節(jié)點要求線寬達到原子級準確度，通常采用線寬標準物質(zhì)對關鍵尺寸量測設備進行計量溯源，以確保關鍵尺寸設計加工的準確性。隨著集成電路工藝制程節(jié)點的不斷縮小，芯片的晶體管密度增加和性能提升得益于晶體管柵極寬度的不斷減少。
